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                      幾種氣體滅火劑的介紹

                      文件大小: 更新時間:
                      氣體滅火在我國始于80年代,盛于90年代,新型滅火方式和滅火劑在應用過程中經歷了許多變化,在火險隱患、火災撲救、環境保護、經濟實用等諸多因素中選擇一種滿意的消防設防方案,常常十分復雜。本文就此作一些討論,僅供同仁參考 查看詳情

                      日本半導體制程電子氣體及中國發展情況-2008年7月

                      文件大小: 更新時間:
                      從日本半導體制程潔凈及蝕刻用氣體之現況反觀國內之發展NF3在執行CVD腔體潔凈(ChamberCleaning)扮演重要的角色,清潔效率極高,近年來受到「京都議定書」對全氟化物PFC(PerfluorinatedComp... 查看詳情

                      多晶硅薄膜太陽能電池的研制及發展趨勢

                      文件大小: 更新時間:
                      目前太陽電池用硅材料大多來自半導體硅材料的外品和單晶硅的頭尾料,不能滿足光伏工業發展的需要。同時硅材料正是構成晶體硅太陽電池組件成本中很難降低的部分,因此為了適應太陽電池高效率、低成本、大規模生產發展的需要,最有效的辦法... 查看詳情

                      60萬片硅外延片工廠的特種氣體需求

                      文件大小: 更新時間:
                      介紹了年產300萬硅拋光片、60萬硅外延片,主要生產4~12英寸的硅拋光片以及6~8英寸的硅外延片的微電子工廠的氣體需求。主要有三氯氫硅、氯化氫、磷烷、乙硼烷、氫氣和氮氣。特種氣體存放于進口的特氣鋼瓶柜,氯化氫HCl、三... 查看詳情

                      氧化亞氮(笑氣 N2O)廠房設備及其功能

                      文件大小: 更新時間:
                      1. 熔爐:熔爐與分解爐都是由鋁制的,易于熱交換;均可由電或蒸汽加熱。熔爐容量是適用于25kg/h的廠房。熔爐是該廠房最關鍵的部分,型號越小更容易控制。A. 熔爐:開始將固體NH4NO3送進熔爐,不斷加熱以熔解NH4NO... 查看詳情

                      氣體標準物質(標準氣體)不確定度的計算

                      文件大小: 更新時間:
                      標準氣體組份含量的不確定度來源于原料氣體純度的不確定度(組份氣體純度的不確定度以及稀釋氣中I組份含量及其測定的不確定度)和配制稱量過程的不確定度以及混合氣體在瓶內的穩定性,均勻性引起的不確定度. 查看詳情

                      鋼瓶加熱抽真空實驗

                      文件大小: 更新時間:
                      1實驗目的降低鋼瓶抽真空處理溫度,提高鋼瓶抽真空處理效率。(總共用時6天)2實驗設備與原料狀態良好的加熱抽真空裝置1套。36個40L新鋼瓶(重慶益峰)。5支H2O<3ppm的高純氮氣。(0.5天)狀態良好微量水分儀1臺。... 查看詳情

                      華南6省規?;がF狀與規劃

                      文件大小: 更新時間:
                      2003年廣東省規模以上石化工業總產值2045億元,占全省工業總產值9.5%,占全國石化工業總產值10%。主要產品產量:加工原油2060萬噸,汽煤柴三大類成品油1233萬噸,乙烯56萬噸,合成樹脂208萬噸,輪胎647萬... 查看詳情

                      電子氣體產業動態

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                      2006年是“十一五”計劃的開局年,也是中國集成電路產業繼續快速前行的發展年。2006年蘇州市新成立的集成電路企業及配套企業近20家,其中包括三星電子(蘇州)半導體第二工廠、晶方半導體科技(蘇州)有限公司、蘇州震坤科技有... 查看詳情

                      2008晶圓級半導體特種氣體市場概況

                      文件大小: 更新時間:
                      半導體制程來了解氣體的應用,則薄膜制程會是相當大宗的使用部分,薄膜制程依照其成長方式之不同,可分金屬化濺鍍薄膜、CVD薄膜、磊晶,金屬化濺鍍(物理氣相沈積)主要應用在金屬層成長,如鋁、銅等,其原理是利用氬氣電漿轟擊金屬靶... 查看詳情
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